機器詳細
機器名 | 誘導結合プラズマ質量分析法(ICP-MS) |
コード | 0073 |
分野 | 化学 |
目的別分類 | 物性 |
メーカー名 | アジレント・テクノロジー株式会社 |
型式 | Agilent 7700 Series ICP-MS |
製造年 | |
写真 |
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仕様 | •ヘリウムモードの優れたパフォーマンスと新しい第 3 世代の ORS3 セルによりこれまでにない干渉性能を実現 •比類のないクールプラズマパフォーマンス――脱イオン水、過酸化物、HF などのクリーンなマトリクスに含まれる Li、Na、K、Ca といった元素の業界標準メソッドを提供 •水素セルガスを標準使用するリアクションモードに加えて、オプションの第 3 セルガスラインで NH3 /He といった反応性の高いガスに対応 |
装置の概要 | 7700は、半導体業界における高純度原料などの超微量元素分析に対応できる。 効率の良いサンプル導入システム、オプションガスライン、第 2 セルガス (水素) ラインを標準搭載した 7700 は、既知のマトリクスや一貫性のあるマトリクスにおいて予想される干渉を除去する高いパフォーマンスを備えています。 最高のクールプラズマ機能をも備えた 7700s は、高純度材料に含まれるイオン化しやすい元素を測定する業界最高のパフォーマンスを備えているため、一般的なすべての半導体分析メソッドを 1 台の同じ機器で実行することができます。 |
外部利用可否 | ○ |
管理責任者 | 堀川 恵司・理学部 |
機器管理者 | 堀川 恵司・理学部 |
キャンパス | 五福 |
設置場所 | 総合研究棟5階 |
設置年度 | |
学内利用申請 | 指導教員から直接、管理者の先生にご連絡ください。 |