機器詳細
| 機器名 | 配線パターン形成装置 |
| コード | 0034 |
| 分野 | 化学金属電気電子物理その他 |
| 目的別分類 | 無機有機 |
| メーカー名 | ミカサ株式会社 |
| 型式 | MA-20 |
| 製造年 | |
| 写真 |
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| 仕様 | 最大ウエハサイズ： ４インチ角 マスクサイズ ： ５インチ角 露光光学系 ： 500 W Deep UVランプ照度 ばらつき ： ±5 %以内 解像度 ： １ μｍ以下 |
| 装置の概要 | UV光源を用い、フォトマスクを介することで等倍のパターンを基板上のフォトレジスト上に転写する装置。簡単にミクロンオーダーのパターン転写が可能となる。 半導体デバイス試作、微細電極パターニング、バイオ･デバイス、マイクロ流路、光学部品加工用パターン作製など、様々なパターン試作が可能。 |
| 外部利用可否 | ○ |
| 管理責任者 | 小野 恭史・機器分析施設 |
| 機器管理者 | 岡田 裕之・工学部 |
| キャンパス | 五福 |
| 設置場所 | 総合研究棟２階 超微細素子作製観察装置室 （E3） |
| 設置年度 | 2002年度 |
| 学内利用申請 | 機器分析施設に利用申請書を提出してください。 |