機器詳細
| 機器名 | 超微細素子作製観察装置 |
| コード | 0033 |
| 分野 | 医療金属生命科学電気電子物理その他 |
| 目的別分類 | 高分子ナノ材料表面物性無機有機 |
| メーカー名 | 株式会社エリオニクス |
| 型式 | ELS-7300 |
| 製造年 | |
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| 仕様 | 電子銃 ： ZrO / W電子銃 走 査 ： ベクター、ラスタースキャン 最大加速電圧： 30 kV 最小線幅 ： 20 nm つなぎ精度（3σ） ： 0.5 μｍ 重ね合わせ精度（3σ）： 0.25 μｍ 描画サイズ ： 40×20 mm以上 最大ビーム電流 ： 0.5 nA以上 ビーム安定性 ： 1 %以下 ビームブランカ ： 静電偏向方式 データフォーマット： GDSII、DXF、BMP対応 偏向歪み ： ±0.3 μｍ以下 ステージ移動 ： ステッピングモータ 電子線走査範囲 ： 最大1 mm□ 最大走査ステップ ： 20,000×20,000 ステージ位置最小分解能 ： 500 nm 描画速度（最大走査レート）： 0.2 μs/step以下 |
| 装置の概要 | 電子ビーム描画装置は、電子線加工装置と走査型電子顕微鏡を応用したもので、超微細パターン作製に用いられる。電子銃から発せられた電子線を電子レンズやアパーチャー、デフレクタなどを通し、X-Y-Zステージを微細に制御しながら基板へ照射して目的のパターンを露光する。 50nm程度の超微細パターン描画が可能であり、半導体トランジスタ用ゲートパターン描画、集積回路、SAWデバイス、量子効果素子、フォトニッククリスタル、超伝導素子、マイクロマシン等の試作が可能 。 |
| 外部利用可否 | ○ |
| 管理責任者 | 小野 恭史・機器分析施設 |
| 機器管理者 | 岡田 裕之・工学部 |
| キャンパス | 五福 |
| 設置場所 | 総合研究棟２階 超微細素子作製観察装置室 （E3） |
| 設置年度 | 2002年度 |
| 学内利用申請 | 機器分析施設に利用申請書を提出してください。 |