機器詳細
| 機器名 | ナノインプリントリソグラフィ装置 |
| コード | 0026 |
| 分野 | 医療化学環境生命科学電気電子物理その他 |
| 目的別分類 | 高分子ナノ材料有機 |
| メーカー名 | ナノニクス株式会社 |
| 型式 | NanoimPro Type510TS |
| 製造年 | |
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| 仕様 | 基板サイズ ： 最大100 mm角 圧力制御 ： フィードバックプログラム制御 最大加圧荷重 ： 50 kN 最小加圧力 ： 500 N 荷重分解能 ： 40 N 面内加重均一性 ： ±30 ％以内 加熱ヒータ ： 300 ℃に加熱可能 真空チャンバー ： 20 Torr以下 ステージ面平坦精度 ： ±1 μm以内 アライメント精度 ： ±3 μm以下 残膜厚 ： 10 ％以下（300 nm時） 押込軸制御分解能 ： 0.1 μm |
| 装置の概要 | アライメントを行いながら加熱・加圧下でモールドからのパターン転写を樹脂材料等に行うことで、最小10 nmサイズの凹凸パターン形成が可能です。 制御ユニットとPCにより、圧力、温度を変えながら、パターン転写が可能です。装置の構成が簡単で、製造時間も圧倒的に短くなります。 |
| 外部利用可否 | × |
| 管理責任者 | 小野 恭史・機器分析施設 |
| 機器管理者 | 岡田 裕之・工学部 |
| キャンパス | 五福 |
| 設置場所 | 学術研究・産学連携本部 （G14) |
| 設置年度 | |
| 学内利用申請 | 機器分析施設に利用申請書を提出してください。 |