機器詳細
| 機器名 | 金コーター |
| 機器コード | I020 |
| 分野 | 化学環境金属電気電子物理 |
| 目的別分類 | 形状観察高分子表面無機有機 |
| メーカー名 | 日本電子株式会社 |
| 型式 | QUICK AUTO COATER JFC-1500 ION SPUTTERING DEVIC |
| 製造年 | |
| 写真 |
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| 仕様 | スパッタリング方式：2極DCグロー放電スパッタ 使用圧力：～10-1Pa スパッタリング電流：10、20、30、40mA（プリセット式） ターゲット：直径57mm金（白金への変更も可） 試料台：直径64mm 真空チャンバ：外径120mm×高さ100mm、パイレックスガラス製 真空モニタ：ピラニ真空計 タイマー：1～300秒 排気系：直結型ロータリーポンプ30L/min |
| 装置の概要 | ◯スパッタリングにより金を試料にコーティングし、導電性を付与する装置。金スパッタリングでは、成膜プロセスをきめ細かく制御できるため、均一性が高く、耐久性の高い被膜が得られる。一方、試料上の粒子の大きさが数十nm程度と大きいため、数万倍程度の倍率でのSEM観察でも金粒子が見えてしまう。Mα線が他の元素と重なることがあり、元素分析には不適。 ◯管理者から操作方法を教授された利用者のみ使用可能。予約は不要。 |
| 外部利用可否 | ○ |
| 管理責任者 | 小野 恭史・機器分析施設 |
| 機器管理者 |
山田 聖・機器分析施設 |
| キャンパス | 五福 |
| 設置場所 | 工学部 |
| 設置年度 | |
| 学内利用申請 | 機器分析施設に利用申請書を提出してください。 |