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機器詳細

機器名 低真空電子顕微鏡 (EDS付)
コード 0120
分野 医療化学環境金属生命科学電気電子物理
目的別分類 形状観察ナノ材料表面
メーカー名 株式会社日立ハイテク
型式 Miniscope TM4000PlusⅡ
製造年 2021年
写真
仕様 【SEM部】
倍率       10~100,000倍 (写真倍率)
加速電圧     5 kV / 10 kV / 15 kV / 20 kV
画像信号     反射電子 / 二次電子 / 合成(反射電子+二次電子)
観察条件設定   表面 / 通常 / 分析
真空モード    導電体 / 標準 / 帯電軽減
画像モード    通常、影付1、影付2、凹凸
試料可動範囲   X:40 mm、Y:35 mm(モータードライブステージ付)
最大試料寸法   80 mm径
最大試料厚さ   50 mm
検出系      反射電子:高感度4分割半導体反射電子検出器
         二次電子:高感度低真空二次電子検出器
【EDS部】
検出素子タイプ  シリコンドリフト検出器
検出素子面積   30mm2
エネルギー分解能 151eV(Cu Kα)(Mn Kα129eV相当)
分析可能元素   定性分析:B5 ~ U92
【付属品】
・カメラナビゲーションシステム
・Multi Zigzag
・チルト&ローテーションステージ
・Stem holder
装置の概要  電子銃部に搭載されたWフィラメントを、加熱し飽和させることで発生する電子線を照射し、試料表面から発生した二次電子、反射電子の信号を検出して試料の形態、組成の差を観察します。また、特性X線の信号を検出することでその個所の組成や元素分布を調べる装置です。電子線による顕微鏡のため、装置内は真空に保っていますが、本装置は導電性のないサンプルを前処理なしで観察するため、通常の真空度の10-4 Paよりも大気に近い数Paでの観察を可能にしています。
 装置に付属されているPCでフル操作できる環境です。観察している画像は、すべてデジタルファイルとして保存でき、劣化しないデータとしての保存が可能です。対象試料としては、金属、高分子といった多岐にわたる材料までの応用が可能です。
外部利用可否
管理責任者 小野 恭史・機器分析施設
機器管理者 山田 聖・機器分析施設
キャンパス 五福
設置場所 富山市新産業支援センター(G15)
設置年度 2022年度
学内利用申請 機器分析施設に利用申請書を提出してください。