機器詳細
| 機器名 | リアクティブ･イオン･エッチング装置(RIE) |
| コード | 0102 |
| 分野 | 金属電気電子 |
| 目的別分類 | ナノ材料表面 |
| メーカー名 | アネルバ株式会社 |
| 型式 | 反応性イオンアシストエッチング |
| 製造年 | |
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| 仕様 | ・加工サイズ：最大4インチ程度 ・使用ガス：CF4 , SF6 , O2 ・基板：Si , ガラス等 |
| 装置の概要 | 加工材料： ・SiO2、SiN、Ta、Si等 ・Pt等の高沸点反応物の発生する材料は不可 ・塩素系は導入不可 ・アルカリ金属は厳禁 ・参加しやすいFe、Zn、低仕事関数金属等は不可 ・エッチング材料は要相談 |
| 外部利用可否 | × |
| 管理責任者 | 岡田 裕之・工学部 |
| 機器管理者 | 岡田 裕之・工学部 |
| キャンパス | 五福 |
| 設置場所 | VBL2階 |
| 設置年度 | |
| 学内利用申請 | 指導教員から直接、管理者の先生にご連絡ください。 |