機器詳細
| 機器名 | 高真空蒸着装置 |
| 機器コード | Z |
| 分野 | 金属電気電子 |
| 目的別分類 | ナノ材料表面 |
| メーカー名 | エイコーエンジニアリング社製 |
| 型式 | 電子ビーム加熱型蒸着装置 |
| 製造年 | |
| 写真 |
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| 仕様 | ・基板サイズ：25mmホルダーあり ・50mm,100m等は使用者でホルダー作製が必要 ・基板：Si , ガラス等 |
| 装置の概要 | 高真空蒸着装置は、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置で排気操作・成膜操作を自動で行うことができる。 ・蒸着材料： 抵抗加熱(RH)、電子ビーム(EB)蒸着できる材料 Aℓ、Au、Ag、Ni等(RF) Ta、Mo、Cr、Ti、Co SiO、Aℓ2O3、TiO2等(EB)、有機材料も可 Fe、Zn、S、Se等、参加しやすい材料や高蒸気圧材料は不可 不明な材料は要相談 |
| 外部利用可否 | × |
| 管理責任者 | 岡田 裕之・工学部 |
| 機器管理者 |
岡田 裕之・工学部 |
| キャンパス | 五福 |
| 設置場所 | VBL2階 |
| 設置年度 | |
| 学内利用申請 | 指導教員から直接、管理者の先生にご連絡ください。 |