機器データベース

機器詳細

機器名 高真空蒸着装置
コード 0101
分野 金属電気電子
目的別分類 ナノ材料表面
メーカー名 エイコーエンジニアリング社製
型式 電子ビーム加熱型蒸着装置
製造年
写真
仕様 ・基板サイズ:25mmホルダーあり
・50mm,100m等は使用者でホルダー作製が必要
・基板:Si , ガラス等
装置の概要 高真空蒸着装置は、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置で排気操作・成膜操作を自動で行うことができる。

・蒸着材料:
 抵抗加熱(RH)、電子ビーム(EB)蒸着できる材料
 Aℓ、Au、Ag、Ni等(RF) Ta、Mo、Cr、Ti、Co
 SiO、Aℓ2O3、TiO2等(EB)、有機材料も可
 Fe、Zn、S、Se等、参加しやすい材料や高蒸気圧材料は不可
 不明な材料は要相談
外部利用可否 ×
管理責任者 岡田 裕之・工学部
機器管理者 岡田 裕之・工学部
キャンパス 五福
設置場所 VBL2階
設置年度
学内利用申請 指導教員から直接、管理者の先生にご連絡ください。